11月30日消息 相信有了解的朋友都清楚，我国在光刻机等领域长期处于落后状态。而据最新消息显示，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”已于近日通过验收！那么，这对我国在相关领域的发展有何助力呢？让我们来了解一下。
据悉，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
按照官方的说法，该装备也为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等领域提供了制造工具。此外，还有分析人士指出，此次通过验收的“表面等离子体超分辨光刻装备”拥有完全自主知识产权，打破了国外在高端光刻装备领域的垄断，并为纳米光学加工提供了全新的解决途径！那么，你怎么看呢？
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